黄仁勋自曝NVIDIA新一代GPU!GAA晶体管技术将带来20%性能提升
快科技3月30日消息,近日,黄仁勋在GTC 2025大会访谈中表示,依靠环绕栅极(GAA)晶体管的下一代制程技术,将为新一代GPU带来20%的性能提升。如无意外,黄仁勋所说新一代GPU,应该是指预计在2028年推出的Feynman。报道称,黄仁勋在问答中似乎淡化了制程节点变化的重要性,强调摩尔定律的放缓,代表着未来全新的制程技术在密度、功率和或能效方面的改进有限,预计只会带来20%左右的改进。

黄仁勋自曝NVIDIA新一代GPU!GAA晶体管技术将带来20%性能提升
黄仁勋还指出,虽然由领先工艺技术实现的改进受到欢迎,但它们不再具有变革性。“我们会接受它,”他说,但表示其他因素更重要。随着AI系统的扩展,管理大量GPU的效率变得比每GPU的原始性能更重要。通常来说,NVIDIA不会率先采用台积电最新的工艺制程,而会选择次新的成熟制程技术。
比如,NVIDIA目前正在使用台积电的4nm制程技术来生产针对消费等级以及数据中心的Ada Lovelace、Hopper和Blackwell等构架GPU,而台积电4nm节点制程本质上是5nm节点制程的改良版。
而NVIDIA的下一代GPU构架RuBin,计划是采用台积电3nm节点制程,可能是N3P或者是针对NVIDIA的订制化版本。因此,NVIDIA首款采用GAA制程技术的产品,则应该是在2028年推出的Feynman构架上。当然黄仁勋并没有提及会采用哪家的GAA制程技术。 所以,理论上台积电N2制程技术,还是三星的类似技术,甚至是Intel 18A都有可能。

黄仁勋自曝NVIDIA新一代GPU!GAA晶体管技术将带来20%性能提升
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